主要用于在125mm×125mm或156mm×156mm太阳能硅片上淀积氮化硅减反射钝化膜。 产品特点: ◆送片方式:悬臂/软着陆(推荐) ◆射频电源、压力控制系统、干泵等。 ◆数控钣... ...
产品应用:为 MOCVD、PECVD、刻蚀机等配套设备,应用于半导体行业、太阳能电池行业、生物工程、医药卫生、等领域。 气瓶柜/气瓶架采用国际通行的质量标准及工作原理,高纯易燃易爆腐蚀有毒... ...
我公司能够为各种扩散炉提供完整的全系列高质量加热炉体,技术性能指标不低于原设备用炉体。以我公司的加热体专有技术制造的炉体将提供更宽的工艺温度范围及更高的恒温区以及更长的使用寿命。 技术特点... ...
◆每炉60-80公斤,100公斤,150公斤 ◆温度:1250℃&plun;1℃/1600℃&plun;1℃ ◆工作方式:五温区高双室真空炉 ◆适用于钐钴、钕铁硼等精密材料的烧结快淬等工艺 ◆温区高均匀度、... ...
产品应用:太阳能电池片生产线上125mm×125mm、156mm×156mm方片扩散、氧化、退火等工艺使用。 产品特点: ◆工业计算机控制系统,对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制; ... ...
产品应用:应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域,适用2~8英寸工艺尺寸 产品特点: ◆主机为水平一至四管炉系统构架,完成不同的工艺或相同工艺 ◆工业... ...
产品详细描述: 产品应用:主要用于电力电子器件、精密材料的真空热处理(如烧结、封装、退火等)等工艺 产品特点: ◆六面/加热,6/3点控温,高温度均匀性 ◆烧结容积大,生产效率高 ... ...
产品详细描述: 产品应用:应用于钐钴、钕铁硼等精密磁性材料,以及粉末冶金材料的真空烧结、退火等工艺。 产品特点: □真空双室(热处理室、进料室等)、多室结构,自动送片、出片 □工业... ...
产品应用:主要用于材料的熔炼生长等工艺 产品特点: □设备的反应室采用高质量不锈钢,按高压容器严格设计、制造及检测,可依据客户需求定制。 □采用工业计算机控制系统,操作简捷。 □完善的... ...